Home >

news ヘルプ

特許情報


発明の名称
マスク製造装置、マスク製造方法 
発明者
谷岡明彦, 向井　絵美, 石川　和橋, 高橋　光弘.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, パナソニック株式会社.  
出願日
2008/06/03
出願番号
特願2008-145870
公開日
2009/12/17
公開番号
特開2009-291306
登録日
2012/06/15
登録番号
特許第5013485号

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.