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特許情報


発明の名称
マスク製造装置 
発明者
谷岡明彦, 向井　絵美, 石川　和宜, 高橋　光弘.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, パナソニック株式会社.  
出願日
2012/04/20
出願番号
特願2012-097060
公開日
2012/08/02
公開番号
特開2012-143618
登録日
2013/06/14
登録番号
特許第5288023号

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