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特許情報


発明の名称
シリコン系薄膜半導体装置、およびシリコン系薄膜半導体装置の製造方法 
発明者
細野秀雄, 戸田喜丈, 小穴　保久, 渡邉　俊成, 宮川　直通.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, AGC株式会社, エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド(LG Display Co. Ltd.).  
出願日
2015/02/25
出願番号
特願2015-035534
公開日
2016/09/01
公開番号
特開2016-157856
登録日
2019/04/26
登録番号
特許第6517535号

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