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特許情報


発明の名称
光吸収層、化合物薄膜太陽電池、光吸収層の製造方法、および、化合物薄膜太陽電池の製造方法 
発明者
山田明, 張　毅聞, 佐竹　哲夫, 古田　薫, 殷　明.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社.  
出願日
2016/03/30
出願番号
特願2016-069418
公開日
2017/10/05
公開番号
特開2017-183549

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