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特許情報
発明の名称
エポキシ誘導体の製造装置、エポキシ誘導体の製造方法およびエポキシ誘導体製造装置の製造方法
発明者
山中一郎
, 橋本 康嗣, 佐藤 康司.
種別
特許
状態
登録
出願人
国立大学法人東京工業大学, ENEOS株式会社.
出願日
2018/10/10
出願番号
特願2018-191857
公開日
2020/02/13
公開番号
特開2020-023742
登録日
2022/07/14
登録番号
特許第7105421号
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