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特許情報


発明の名称
積層デバイスの製造方法、および、積層デバイス 
発明者
大場隆之, 菅谷　慎二　.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 株式会社アドバンテスト.  
出願日
2021/09/29
出願番号
特願2021-159670
公開日
2023/04/10
公開番号
特開2023-049739

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