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特許情報


発明の名称
積層体、積層体を含む電子源及び電子デバイス、並びに積層体の製法及び浄化方法 
発明者
大見俊一郎, 長岡　克己, 相澤　俊.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人 物質・材料研究機構.  
出願日
2021/09/22
出願番号
特願2021-154427
公開日
2023/04/03
公開番号
特開2023-045834

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