発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"彌田智一,小村元憲,佐藤浩行,増田　一之　,村田　和広　","液晶性ブロック共重合体薄膜の製造方法、及びパターン形成方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 株式会社ＳＩＪテクノロジ","2013/12/09","特願2013-254279","2015/06/22","特開2015-113356","特許第6311962号","2018/03/30"
"彌田智一,長井圭治,小村元憲,村中　由夏,山口　徹","パターン形成方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 日本電信電話株式会社","2013/09/02","特願2013-180970","2015/03/16","特開2015-050322","特許第5924779号","2016/04/28"
"彌田智一,小村元憲,新納　洋,野殿　光史　","液晶性ブロック共重合体塗膜、液晶性ブロック共重合体薄膜の製造方法及びパターン形成方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱レイヨン株式会社","2011/05/09","特願2011-104466","2012/11/29","特開2012-233138","特許第5752987号","2015/05/29"