発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"舟窪浩,清水荘雄,安岡慎之介,上原　雅人,山田　浩志　,秋山　守人","強誘電性薄膜、それを用いた電子素子および強誘電性薄膜の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所","2020/12/25","特願2021-567693",,,"特許第7260863号","2023/04/11"
"舟窪浩,清水荘雄,青山航大,召田　雅実　,秋池　良　","珪化物系合金薄膜及びその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2020/09/18","特願2020-157537","2022/03/31","特開2022-051194",,
"舟窪浩,清水荘雄,三村和仙,中村　美子,志村　礼司郎,田代裕貴","強誘電性膜の製造方法、強誘電性膜、及びその用途","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2020/04/27","PCT/JP2020/018031","2020/10/29","WO 2020/218617",,
"舟窪浩,清水荘雄,長谷川光勇,石濱圭佑,佐藤　祐介,佐藤　和希子,石田　未来","誘電性薄膜、誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2019/09/11","特願2020-546060","2021/09/30","再表2020/054779","特許第7515113号","2024/07/04"
"舟窪浩,清水荘雄,青山航大,召田　雅実,秋池　良","バリウムおよびストロンチウムを含む珪化物薄膜及びその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2019/09/03","特願2019-160314","2021/03/11","特開2021-038433","特許第7474434号","2024/04/17"
"舟窪浩,舘山明紀,伊東 良晴,清水荘雄,折野裕一郎,黒澤実,内田 寛,白石貴久,木口 賢紀,熊田 伸弘","圧電体膜の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 学校法人上智学院, 国立大学法人東北大学, 国立大学法人山梨大学","2019/01/10","特願2019-564746","2021/03/11","再表2019/139100",,
"舟窪浩,清水荘雄,三村和仙,志村　礼司郎,井上　ゆか梨,佐藤　祐介","強誘電性薄膜、強誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2018/08/31","特願2018-163377","2020/03/05","特開2020-033629","特許第7061752号","2022/04/21"
"舟窪浩,清水荘雄,青山航大,召田　雅実,倉持　豪人,秋池　良","ストロンチウムを含む薄膜及びその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2018/02/28","特願2018-035001","2019/09/05","特開2019-149523","特許第7076093号","2022/05/19"
"舟窪浩,清水荘雄,長谷川光勇,佐藤　祐介　,佐藤　和希子　,石田　未来　","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2018/01/09","特願2018-001161","2019/07/22","特開2019-121702",,
"舟窪浩,清水荘雄,根本祐一,佐藤　祐介　,森下　純平　,佐藤　和希子","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2017/10/25","特願2017-206190","2019/05/23","特開2019-079948",,
"舟窪浩,清水荘雄,根本祐一,政井　琢　,佐藤　祐介　,森下　純平","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2016/12/22","特願2017-558284","2018/10/18","再表2017/111090",,
"清水荘雄,舟窪浩,片山きりは,三村和仙","強誘電性薄膜、電子素子及び製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学","2015/08/28","特願2016-545654","2017/06/15","再表2016/031986","特許第6661197号","2020/02/14"
"舟窪浩,清水荘雄,木村純一,桜井　英章,藤井　順,曽山　信幸","非鉛誘電体薄膜形成用液組成物及びその薄膜の形成方法並びにその方法で形成された非鉛誘電体薄膜","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2014/08/27","特願2014-172543","2015/06/11","特開2015-107904",,
"舟窪浩,清水荘雄,木村純一,桜井　英章　,藤井　順　,曽山　信幸","非鉛誘電体薄膜及びこの薄膜形成用組成物並びにこの薄膜の形成方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2014/08/27","特願2014-172455","2015/06/11","特開2015-107905",,
"舟窪浩,田中宏樹,清水荘雄,内山　潔","ペロブスカイト型酸化物層の形成方法、ペロブスカイト型酸化物層及びそれを用いた用途","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 独立行政法人国立高等専門学校機構 鶴岡工業高等専門学校","2014/03/14","特願2014-052545","2015/10/05","特開2015-175030",,