MOCVD法によるPrシリケート膜の作製と特性評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法によるPrシリケート膜の作製と特性評価
英文:

著者

和文:	土屋良重, 藤田啓嗣, 野平博司, 服部健雄, 水田博, 小田俊理.
英文:	土屋良重, 藤田啓嗣, 野平博司, 服部健雄, 水田博, 小田俊理.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2004年

出版者

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会議名称

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開催地

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