Fabrication of Coulomb blockade device utilizing the 0.34nm interlayer spacing in a multiwalled carbon nanotube

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of Coulomb blockade device utilizing the 0.34nm interlayer spacing in a multiwalled carbon nanotube

著者

和文:	E. Watanabe, K. Tsukagoshi, I. Yagi, Y. Aoyagi.
英文:	E. Watanabe, K. Tsukagoshi, I. Yagi, Y. Aoyagi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Microelectronic Ingineering

巻, 号, ページ

Vol. 73-74 No. 73/74 pp. 666-669

出版年月

2004年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI