20 nm Periodical Pattern by Calixarene Resists:  Comparison of CMC[4]AOMe with MC[6]AOAc

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	20 nm Periodical Pattern by Calixarene Resists: Comparison of CMC[4]AOMe with MC[6]AOAc

著者

和文:	Y. Miyamoto, Y. Shirai, M. Yoshizawa, K. Furuya.
英文:	Y. Miyamoto, Y. Shirai, M. Yoshizawa, K. Furuya.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2004 International Microprocesses and Nanotechnology Conference

巻, 号, ページ

pp. 28P-6-54

出版年月

2004年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: