A Study on Selective Etching of SiGe Layers in SiGe/Si Systems for Device Applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A Study on Selective Etching of SiGe Layers in SiGe/Si Systems for Device Applications

著者

和文:	T. Yamazaki, T. Sekikawa, S. Morita, Y. Hakamada, H. Ohri, S. Ohmi, T. Sakai.
英文:	T. Yamazaki, T. Sekikawa, S. Morita, Y. Hakamada, H. Ohri, S. Ohmi, T. Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Mat. Res. Soc. Symp. Proc.

巻, 号, ページ

Vol. 795 pp. U11.8.1-6

出版年月

2004年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: