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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Reduced Leakage Current in BiFeO3 Thin Films on Si Substrates Formed by a Chemical Solution Method 
著者
和文: S.K.Singh, H.Ishiwara.  
英文: S.K.Singh, H.Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 44, Part 2    No. 23    pp. L734-L736
出版年月 2005年5月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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