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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Characterization of (Bi,Nd)4Ti3O12/HfO2/p-type Si structures for MFIS-FeRAM application 
著者
和文: Y. Tabuchi, K. Aizawa, T. Tamura, K. Takahashi, H. Hoko, K. Kato, Y. Arimoto, H. Ishiwara.  
英文: Y. Tabuchi, K. Aizawa, T. Tamura, K. Takahashi, H. Hoko, K. Kato, Y. Arimoto, H. Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:17th Intern. Sympo. on Integrated Ferroelectrics 
巻, 号, ページ     No. 3-33-P   
出版年月 2005年4月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文:Shanghai 

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