(Bi,Nd)<sub>4</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>/CVD HfO<sub>2</sub>構造を用いたMFISダイオードの作製と評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	(Bi,Nd)₄Ti₃O₁₂/CVD HfO₂構造を用いたMFISダイオードの作製と評価
英文:

著者

和文:	長谷川聡史, 田渕良志明, 加藤一実, 田村哲朗, 有本由弘, 石原宏.
英文:	長谷川聡史, 田渕良志明, 加藤一実, 田村哲朗, 有本由弘, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2005年(平成17年)春季第52回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 31a-P4-9

出版年月

2005年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:	埼玉大学
英文:

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.