CVD法により形成したRu電極を用いたBiFeO<sub>3</sub>キャパシタの評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	CVD法により形成したRu電極を用いたBiFeO₃キャパシタの評価
英文:

著者

和文:	林大祐, S. K. Singh, 小菅博明, 大島憲明, 石原宏.
英文:	林大祐, S. K. Singh, 小菅博明, 大島憲明, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2005年（平成17年）秋季第66回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 9p-L-12

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:	徳島大学
英文:

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