Buffer/Si基板上のPZT薄膜の配向性が残留応力と誘電特性に及ぼす影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	Buffer/Si基板上のPZT薄膜の配向性が残留応力と誘電特性に及ぼす影響
英文:	Effect of PZT Thin Film Orientation on Residual Stress and Electric Properties on Buffer/Si Substrate

著者

和文:	藤戸啓輔, 脇谷尚樹, 木口賢紀, 水谷惟恭, 篠崎和夫.
英文:	Keisuke Fujito, Naoki Wakiya, Takanori Kiguchi, Nobuyasu Mizutani, Kazuo Shinozaki.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会　第25 回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集
英文:	Extended abstracts the 25th Electronics Division Meeting of the Ceramic Society of Japan

巻, 号, ページ

No. 2B01 pp. 37

出版年月

2005年10月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	日本セラミックス協会　第25 回エレクトロセラミックス研究討論会
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開催地

和文:	大岡山
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