Formation of ferroelectric (Bi,Nd)4Ti3O12 thin films on HfO2/Si(100) structures for MFIS-type ferroelectric memory applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Formation of ferroelectric (Bi,Nd)₄Ti₃O₁₂ thin films on HfO₂/Si(100) structures for MFIS-type ferroelectric memory applications

著者

和文:	Y.Tabuchi, B-E.Park, K.Aizawa, Y.Kawashima, K.Takahashi, K.Kato, Y.Arimoto, H.Ishiwara.
英文:	Y.Tabuchi, B-E.Park, K.Aizawa, Y.Kawashima, K.Takahashi, K.Kato, Y.Arimoto, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Integrated Ferroelectrics

巻, 号, ページ

Vol. 65 pp. 125-134

出版年月

2005年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: