磁場印加陽極酸化法を用いたシリコン3次元構造の作製 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	磁場印加陽極酸化法を用いたシリコン3次元構造の作製
英文:

著者

和文:	筆宝大平, 浦川圭, 川田善之, 土屋良重, 水田　博, 越田信義, 小田俊理.
英文:	筆宝大平, 浦川圭, 川田善之, 土屋良重, 水田　博, 越田信義, 小田俊理.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第66回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 8a-H-11

出版年月

2005年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:	徳島
英文:

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