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論文・著書情報


タイトル
和文:HfO2薄膜成長過程の分光エリプソメトリによるその場観察と第一原理計算との比較 
英文: 
著者
和文: 鄭 仰東, 土屋 良重, 佐藤 大典, 水田 博, 小田 俊理.  
英文: 鄭 仰東, 土屋 良重, 佐藤 大典, 水田 博, 小田 俊理.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会　第70回研究集会「ゲート絶縁膜の現状と課題 ? 誘電率と界面 ?」 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 70-1        pp. 13-18
出版年月 2005年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文:広島 
英文: 

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