高含有Ni/疎水化SiO<sub>2</sub>複合めっきにおける諸性質の検討 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	高含有Ni/疎水化SiO₂複合めっきにおける諸性質の検討
英文:

著者

和文:	加藤信弘, 小林玄太, N. K. シュレスタ, 佐治哲夫.
英文:	加藤信弘, 小林玄太, N. K. シュレスタ, 佐治哲夫.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	表面技術協会第112回講演大会講演要旨集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 53

出版年月

2005年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	表面技術協会第112回講演大会
英文:

開催地

和文:	石川県
英文:

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