New Photoresist Based on Amorphous Low Molecular Weight Polyphenols

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	New Photoresist Based on Amorphous Low Molecular Weight Polyphenols

著者

和文:	T. Hirayama, D. Shiono, H. Hada, J. Onodera, M. Ueda.
英文:	T. Hirayama, D. Shiono, H. Hada, J. Onodera, M. Ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Photopolymer Conference

巻, 号, ページ

Vol. 17 No. 3 pp. 435-440

出版年月

2004年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 21st Photopolymer Conference

開催地

和文:
英文:	千葉大学

DOI