Analysis of Conductivity in Ultra-shallow p<sup>+</sup> Layers Formed by Plasma Doping

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Analysis of Conductivity in Ultra-shallow p⁺ Layers Formed by Plasma Doping

著者

和文:	K. Tsutsui, K. Majima, Y. Fukagawa, Y. Sasaki, K. Okashita, H. Tamura, K. Kakushima, H. Ito, B. Mizuno, H. Iwai.
英文:	K. Tsutsui, K. Majima, Y. Fukagawa, Y. Sasaki, K. Okashita, H. Tamura, K. Kakushima, H. Ito, B. Mizuno, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Ext. Abs. of 5th International Workshop on Junction Technology

巻, 号, ページ

pp. 73-74

出版年月

2005年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	5th International Workshop on Junction Technology (IWJT2005)

開催地

和文:
英文:	Osaka, Japan