Reverse Current of Plasma Doped p<sup>+</sup> /n Ultra-Shallow Junction

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Reverse Current of Plasma Doped p⁺ /n Ultra-Shallow Junction

著者

和文:	H. Sauddin, H. Tamura, K. Okashita, Y. Sasaki, H. Ito, B. Mizuno, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Iwai.
英文:	H. Sauddin, H. Tamura, K. Okashita, Y. Sasaki, H. Ito, B. Mizuno, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Ext. Abs. of 5th International Workshop on Junction Technology

巻, 号, ページ

pp. 75-78

出版年月

2005年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	5th International Workshop on Junction Technology (IWJT2005)

開催地

和文:
英文:	Osaka, Japan