バッファー層形成条件の最適化によるSi基板上へのPLD法によるエピタキシャルPMN-PT薄膜の作製

論文・著書情報

タイトル

和文:	バッファー層形成条件の最適化によるSi基板上へのPLD法によるエピタキシャルPMN-PT薄膜の作製
英文:	High-temperature stability of non-silicate amorphous gate dielectrics

著者

和文:	林聖悟, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 水谷惟恭, 篠崎和夫, 佐藤桂輔, 近藤正雄, 栗原和明.
英文:	Shogo Hayashi, Takanori Kiguchi, Naoki Wakiya, Nobuyasu Mizutani, Kazuo Shinozaki, Keisuke Sato, Masao Kondo, Kazuaki Kurihara.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会2006年年会講演予稿集
英文:	Abstract book of Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan, 2006

巻, 号, ページ

No. 2A05 pp. 83

出版年月

2006年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会2006年年会
英文:

開催地

和文:	東京大学　（駒場）
英文: