Effects of Exposure on Adhesive Strength between Microsized Photoresist and Si Substrate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of Exposure on Adhesive Strength between Microsized Photoresist and Si Substrate

著者

和文:	石山千恵美, 曽根正人, 肥後矢吉.
英文:	CHIEMI ISHIYAMA, M.Sone, YAKICHI HIGO.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	19th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
英文:

巻, 号, ページ

pp. in press

出版年月

2006年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	MNC2006

開催地

和文:
英文:	Kamakura Prince Hotel, Kanagawa, Japan