Analysis of Stray Magnetic Field at the Substrate and Effect of Applying External Magnetic Field in Facing Targets Sputtering

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Analysis of Stray Magnetic Field at the Substrate and Effect of Applying External Magnetic Field in Facing Targets Sputtering

著者

和文:	T. Ichihara, 中川茂樹, M. Naoe.
英文:	T. Ichihara, S. Nakagawa, M. Naoe.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Vacuum

巻, 号, ページ

Vol. 51 No. 4 pp. 715-718

出版年月

1998年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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