Molecular beam epitaxial growth of YMno<sub>3</sub> films on Si(111) substrates for ferroelectric-gate FET applications（共著）

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Molecular beam epitaxial growth of YMno₃ films on Si(111) substrates for ferroelectric-gate FET applications（共著）

著者

和文:	S. Imada, S. Shouriki, E. Tokumitsu, H. Ishiwara.
英文:	S. Imada, S. Shouriki, E. Tokumitsu, H. Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. of Intern. Sympo. on Future of Intellectual Integrated Electronics

巻, 号, ページ

pp. 371-376

出版年月

1999年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: