溶液気化MOCVD法により作製したSrBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>薄膜の特性改善 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	溶液気化MOCVD法により作製したSrBi₂Ta₂O₉薄膜の特性改善
英文:

著者

和文:	神保武人, 舟窪浩, 徳光永輔, 石原宏.
英文:	神保武人, 舟窪浩, 徳光永輔, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第60回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

pp. 3a-A-6/II

出版年月

1999年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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