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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Redistribution of in situ doped or Ion-implanted Nitorogen in Polysilicon 
著者
和文: Satoshi Nakayama, Tetsushi Sakai.  
英文: Satoshi Nakayama, Tetsushi Sakai.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 79    No. 8    pp. 4024-4028
出版年月 1996年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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