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論文・著書情報


タイトル
和文:半導体大面積薄膜の新しい低温作製：反応性化学気相成長（ＣＶＤ)法 
英文:Novel low-temperature deposition of large-earea semiconducrtor thin films: Reactive cehmeical vapor deposition 
著者
和文: 半那純一.  
英文: Jun-ichi Hanna.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:応用物理 
英文:OYOBUTURI 
巻, 号, ページ Vol. 65    No. 4    pp. 382-386
出版年月 1996年 
出版者
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会議名称
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開催地
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