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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Hot electron interference by 40nm-pitch double slit buried in semiconductor 
著者
和文: H. Hongou, Y. Miyamoto, M. Suhara, K. Furuya.  
英文: H. Hongou, Y. Miyamoto, M. Suhara, K. Furuya.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: Microelectronic Engineering 
巻, 号, ページ Vol. 35        pp. 337-340
出版年月 1997年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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