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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Growth of Si(111)■RT2（3） x ■RT2（3） -In Surfaces Studied by UHV-REM 
著者
和文: H.Minoda, Y.Tanishiro, N.Yamamoto, K.Yagi.  
英文: H.Minoda, Y.Tanishiro, N.Yamamoto, K.Yagi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Surface Sci. 
巻, 号, ページ Vol. 287/288        pp. 915-920
出版年月 1993年 
出版者
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会議名称
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開催地
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