Measurement technique for the evaluation of residual stress in epitaxial thin film by asymmetric X-ray diffraction

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Measurement technique for the evaluation of residual stress in epitaxial thin film by asymmetric X-ray diffraction

著者

和文:	Hiroshi UCHIDA, Takanori KIGUCHI, Atsushi SAIKI, Naoki WAKIYA, Nobuo ISHIZAWA, Kazuo SHINOZAKI, Nobuyasu MIZUTANI.
英文:	Hiroshi UCHIDA, Takanori KIGUCHI, Atsushi SAIKI, Naoki WAKIYA, Nobuo ISHIZAWA, Kazuo SHINOZAKI, Nobuyasu MIZUTANI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Ceram. Soc. Japan

巻, 号, ページ

Vol. 107 No. 7 606-610

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: