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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Current status of fabrication and integration of ferroelectric-gate FET's 
著者
和文: 石原宏.  
英文: HIROSHI ISHIWARA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Mater. Res. Soc. Sympo. Proc. (Ferroelectric Thin Film VIII） 
巻, 号, ページ Vol. 596        pp. 427-436
出版年月 2000年 
出版者
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会議名称
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開催地
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