原子状窒素を用いたSi基板のダメージフリー低温窒化技術 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	原子状窒素を用いたSi基板のダメージフリー低温窒化技術
英文:

著者

和文:	藤崎芳久, 石原宏.
英文:	藤崎芳久, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会、信学技報
英文:

巻, 号, ページ

No. SDM2000-145 pp. 21-25

出版年月

2000年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
英文:

開催地

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英文:

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