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論文・著書情報


タイトル
和文:超高濃Si膜の欠陥評価 
英文:Defect Evaluation of Heavily P-Doped Si Epitaxial Films Growth at Low Temperature 
著者
和文: 山田明.  
英文: AKIRA YAMADA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl Phys 
巻, 号, ページ     No. 32    pp. 1884
出版年月 1993年 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 

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