ゾルゲル法による(Sr<sub>X</sub>Ba<sub>1-X</sub>)Bi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>薄膜の作製 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ゾルゲル法による(Sr_XBa_1-X)Bi₂Ta₂O₉薄膜の作製
英文:

著者

和文:	今福周作, 岡本浩次郎, 徳光永輔, 石原宏.
英文:	今福周作, 岡本浩次郎, 徳光永輔, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第47回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

pp. 30a-P11-18/II

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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