MOCVD法によるストイキオメトリーPbTiO<sub>3</sub>薄膜のリーク特性に及ぼす強酸化性N<sub>2</sub>Oガスの影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法によるストイキオメトリーPbTiO₃薄膜のリーク特性に及ぼす強酸化性N₂Oガスの影響
英文:	N₂O Reactive Gas Effect on Reakage Property of PbTiO₃ Stoichiometric Thin Tilms by MOCVD

著者

和文:	光永英二, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	光永英二, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第16回関東支部研究発表会
英文:	16 th Ceramic Research Conference of Kanto Branch

巻, 号, ページ

No. 1A02 pp. 3

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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