Preparation of Nanocrystalline Silicon Quantum Dots by Pulsed Plasma Processes with High Deposition Rates

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Preparation of Nanocrystalline Silicon Quantum Dots by Pulsed Plasma Processes with High Deposition Rates

著者

和文:	K. Nishiguchi, S. Hara, T. Amano, S. Hatatani, S. Oda.
英文:	K. Nishiguchi, S. Hara, T. Amano, S. Hatatani, S. Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Materials Research Society Symposium Proceedings

巻, 号, ページ

Vol. 571 pp. 43-48

出版年月

2000年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: