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論文・著書情報


タイトル
和文:エピタキシャル成長SrBi2Ta2O9薄膜のMOCVD合成とその電気的特性 
英文: 
著者
和文: H.Funakubo, K.Ishikawa, N/Nukaga, K.Saito, A.Saiki, T.Suzuki, Y.Nishi, M.Fujimoto.  
英文: H.Funakubo, K.Ishikawa, N/Nukaga, K.Saito, A.Saiki, T.Suzuki, Y.Nishi, M.Fujimoto.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第38回セラミックス基礎科学討論会講演要旨集 
英文: 
巻, 号, ページ         pp. 354-55
出版年月 2000年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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