ｃ軸配向エピタキシャルBi<sub>2</sub>VO<sub>5.5</sub>薄膜のMOCVD合成とその評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ｃ軸配向エピタキシャルBi₂VO_5.5薄膜のMOCVD合成とその評価
英文:

著者

和文:	石川勝之, 佐伯　淳, 斉藤啓介, 水平　学, 舟窪　浩.
英文:	石川勝之, 佐伯　淳, 斉藤啓介, 水平　学, 舟窪　浩.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	春季応用物理学会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 30a-P11-22

出版年月

2000年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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英文:

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