Comparison of Gas-phase Reaction in Low-temperature Growth of Si Films by Photochemical Vapor Deposition and the Hot Wire Cell Method

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Comparison of Gas-phase Reaction in Low-temperature Growth of Si Films by Photochemical Vapor Deposition and the Hot Wire Cell Method

著者

和文:	Katsuya ABE, Takeshi TUSHIMA, Mitsuru ICHIKAWA, Akira YAMADA, Makoto KONAGAI.
英文:	Katsuya ABE, Takeshi TUSHIMA, Mitsuru ICHIKAWA, Akira YAMADA, Makoto KONAGAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Non-Crystalline Solids

巻, 号, ページ

Vol. 266-269 pp. 105-109

出版年月

2000年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: