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タイトル
和文: 
英文:New Positive-Type Chemically Amplified Photosensitive Poly(phenylene ether): 5 Poly[tert-butyl- a-( 2-hydroxy-3-methylphenoxy)acetate-co-2,6-dimethylphenol] with Photoacid Generator, 
著者
和文: Y. Sasada, Y. Shibasaki, M. Ueda.  
英文: Y. Sasada, Y. Shibasaki, M. Ueda.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Forefront of Lithographic Materials Research 
巻, 号, ページ         pp. 405-410
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
英文:Forefront of Lithographic Materials Research 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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