次世代ゲート絶縁膜用高誘電率薄膜に関する研究 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	次世代ゲート絶縁膜用高誘電率薄膜に関する研究
英文:

著者

和文:	岩井洋, 大見俊一郎.
英文:	岩井洋, 大見俊一郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本学術振興会未来開拓学術研究推進事業研究プロジェクト、｢次世代ULSI用薄膜材料の開発とナノスケールプロセスインテグレーション｣第８回研究会
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2001年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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英文:

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