Low energy ion etching of GaAs and Si using a new type of ion source excited by an electron beam

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low energy ion etching of GaAs and Si using a new type of ion source excited by an electron beam

著者

和文:	J.Z.Yu, T.Hara, T.Yoshinaga, M.Hamagaki, Y.Aoyagi, S.Namba.
英文:	J.Z.Yu, T.Hara, T.Yoshinaga, M.Hamagaki, Y.Aoyagi, S.Namba.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Extended Abstract of the 19th Conference on Solid state Devices and Materials,Tokyo

巻, 号, ページ

pp. 79

出版年月

1987年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: