Measurment Technique for the Evaluation of Residual Stress in Epitaxial Thin Film by Asymmetric X-ray Diffraction

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Measurment Technique for the Evaluation of Residual Stress in Epitaxial Thin Film by Asymmetric X-ray Diffraction

著者

和文:	H.Uchida, T.Kiguchi, A.Saiki, N.Wakiya, N.Ishizawa, K.Shinozaki, N.Mizutani.
英文:	H.Uchida, T.Kiguchi, A.Saiki, N.Wakiya, N.Ishizawa, K.Shinozaki, N.Mizutani.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of The Ceramic Society of Japan

巻, 号, ページ

Vol. 107 No. 7 pp. 606-610

出版年月

1999年7月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
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開催地

和文:
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