Formation of Anormalously Wide Si(111)■RT2（3） x ■RT2（3） Clean Surface and Its Stability

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Formation of Anormalously Wide Si(111)■RT2（3） x ■RT2（3） Clean Surface and Its Stability

著者

和文:	H.Minoda, T.Sato, K.Yagi, Y.Tanishiro, M.Iwatsuki.
英文:	H.Minoda, T.Sato, K.Yagi, Y.Tanishiro, M.Iwatsuki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Surface Sci.

巻, 号, ページ

Vol. 493 No. 1-3 pp. 157-165

出版年月

2001年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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