SiOx自然酸化膜によるYSZ/Si薄膜の結晶化促進現象のTEM観察

論文・著書情報

タイトル

和文:	SiOx自然酸化膜によるYSZ/Si薄膜の結晶化促進現象のTEM観察
英文:	in-situ heating TEM analysis of reduction process of SiOx layer in YSZ/SiOX/Si thin films

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会2001年年会予稿集
英文:	Annual meeting of the ceramic society of Japan 2001

巻, 号, ページ

No. 2G13 pp. 258

出版年月

2001年3月

出版者

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会議名称

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開催地

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